第四十二章 野望(1/2)

放松了一天。

黄明哲年初四就接到马知力的报告，他连忙赶过去材料研究所。

“社长，你终于来了。”马知力兴奋的边走边说。

看着马知力等人那满眼血丝、头发乱糟糟的样子，就知道他们这些天一直在测试光敏材料规律模型。

“老马要劳逸结合，办公室谈吧！”黄明哲向办公室去。

“多谢社长关心，我一时间太兴奋而已。”

办公室里面，在场只有马知力和四个研究员，其他人都还没有回来上班。

“都坐。”黄明哲坐下之后：“模型计算出来的出材效率是8.6左右，而出材合格率是1.7左右。”

“是的，社长。”马知力兴奋的说道：“社长，你研发的计算模型太厉害了，简直是材料研发的神器。”

“宇宙万物都在数学之中，没有什么不可以被计算。”黄明哲微笑着说道。

如果之前有人在马知力等人面前这样说，他们绝对会嗤之以鼻，但是现在他们已经有些相信了。

“社长，你这个模型要是发出去，估计可以引发材料学革命。”马知力赞叹道。

黄明哲摇摇头说道：“这种国际精神要不得，这个模型我们内部自己用就可以了。”

“社长说得对。”

“我看了你们的报告，现在我给你们下一个任务。”

“社长请吩咐。”马知力连忙拿出笔记本说道。

“研发一种x射线高敏胶。”

“x射线高敏胶?社长是想研发光刻胶吧！”马知力一听便知道黄明哲的打算。

黄明哲点了点头：“没有错，就是x射线级别的光刻胶，我提几个要求，波长最好在3～8纳米之间；x射线敏感度要足够高，最好可以在几秒钟之内彻底溶解；另外对于x射线的能量级别，最好不需要高能级就可以实现快速光分解。”

“社长，如果我们研发x射线光刻胶，这个可是没有客户的。”马知力提醒道。

目前市面上的光刻机的光源，一般分为紫外光（uv）、深紫外光（duv）、极紫外光（euv），其中最先进的光刻机，就是尼德兰的阿斯麦公司生产的极紫外光（euv），波长为13.4纳米。

但是其实在上个世纪八十年代，光刻机行业之中，还有除了极紫外光（euv）路线，还存在着另一个路线——x射线光刻机。

为什么波长在10纳米以下的x射线光刻机，最后被极紫外光（euv）淘汰?

原因有两个，一是效率问题，x射线照射下光刻胶的光刻速度比较慢；二是精确度问题，为什么说波长10纳米以下的x射线，光刻精度差?因为掩模做不到10纳米以下。

掩模就是电路图的母板，为什么极紫外光（euv）的精度高，原因在于紫外光可以使用凸透镜缩小从掩模过来的光线，而所有人都知道x射线的穿透力非常强，凸透镜根本无法聚焦。

所以x射线光刻机被淘汰了。

市面上没有x射线光刻机，也就意味着没有客户。

“这个问题不是问题。”

“社长没有客户的话……”

黄明哲打断了马知力：“知道x射线光刻机为什么被淘汰吗?”

马知力点了点头。

“效率问题在于光刻胶的光敏性，如果我们研发一种可以在几秒钟内完成光刻的x射线光刻胶，那效率还是问题吗”马知力一愣。

确实如同黄明哲说的那样，光刻效率问题其实就是光刻胶光敏性的影响，归根结底就是材料问题，而材料问题不恰恰就是思维社的强项?

“至于凸透镜无法聚焦x射线，我们为什么不制造一种可以聚焦x射线的凸透镜，这个同样是凸透镜材料的光敏性，材料可以改变一切。”黄明哲笑着提醒道。

“对啊！我怎么没有想到?”马知力顿时瞪大眼睛。

其他人顿时也呼吸急促起来，如果他们解决了光刻胶和凸透镜的光敏性，岂不是相当于完成了x射线光刻机的缺点弥补。

而x射线光刻机的先天性优势，就是发散性低、光线集中、波长短小精悍。

“我们要完成一个独立自主的光刻机系统，就不能按部就班走西方人的老路，不然永远无法超越对方。”黄明哲说道。

这个问题其实就是国内光刻机行业发展的拦路虎，按照西方人的路线走，别人的专利怎么绕过去?

另外光刻机的市场非常小，全世界来来去去就那么多家芯片制造企业，阿斯麦公司和这些芯片制造企业的关系千丝万缕，哪怕是造出来，估计也卖不出去。

“社长，我们马上安排材料计算，一定拿下x射线光刻胶和x射线凸透镜。”马知力坚定的说道。

“注意休息，身体是革命的本钱。”黄明哲关心的说道。

“多谢社长关心，我一定注意。”

“老马，另外你们要注意保密，这个东西可是关系到一个行业的话语权，马虎不得。”黄明哲最后提醒道。

“我一定注意。”马知力脸色顿时一肃。

……

黄明哲随后将蔡知行叫过来，吩咐他准备好相关工作，在国内收购x射线光源制造公司、光学镜片制造公司等等光刻机相关的企业。

而思维社的计算机编程研究所，本身就拥有非常强大软件实力，毕竟黄明哲可是独立完成了初级人工智能幽灵的存在。

而之前的仿真空间技术、有限元逆分析技术，也可以助力光刻机的设计。

尽管思维社买不到阿斯麦公司的极紫外光（euv）光刻机